Elaboration de couches minces grand format (A4)
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              Vos besoins
- Innover et élaborer des films minces (oxyde ou métallique)
- Dépôt par pulvérisation cathodique magnétron homogène en composition et épaisseur sur de grande surface
- Tout type de substrat plan
Nos solutions
- Machine de pulvérisation cathodique magnétron pouvant accueillir des substrats plans de format A4.
- 2 magnétrons plan de grande taille (40*6cm)
- Possibilité de dépôt en mode métallique et réactif (azote et/ou oxygène)
- SAS d’introduction permettant une rotation des substrats rapide
- Mettre à disposition nos compétences et moyens de traitement et de caractérisation pour vous accompagner dans votre démarche d’innovation
Mots-clés
- Couches minces
- PVD
- Pulvérisation cathodique
- Caractérisation de couches minces
- Métallique
- Réactif
- Grande surface
- Homogène
Contenu
              Compétences proches
- Dépôt sous ultravide (ALD – PLD – MBE)
- Structuration de matériaux
- Croissance de nanomatériaux
- Caractérisation chimique (Spectroscopies, etc.)
- Caractérisation structurale et microstructurale
 - Microscopie électronique (MEB - MET)
 - Diffraction des rayons X
 - AFM
Nos références
Contacts
- Contact équipe :
 jean-francois.pierson@univ-lorraine.fr
 +33 (0) 3 72 74 25 99
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- Contact TTO service dédié aux relations entreprises :
 ijl-tto@univ-lorraine.fr
 +33 (0) 3 72 74 26 04
Fiche offre entreprise
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